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- 2019/9/29 閱讀次數：[474]
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氧離子助鍍(IAD)SiO包裝產品使用的絕緣膜方鋁管
SiO2薄膜如果壓力過大，薄膜將有氣氧離子助鍍包裝產品使用的絕緣膜方鋁管孔并且易碎，相反壓力過低薄膜將有吸收并且折射率變大，需要充分提供高能離子或氧離子以便得到合乎需要的速度和特性，必要是需要氧隨方鋁管基板的溫度的改變而改變的.在室溫中蒸鍍，MGF2膜層通常被手指擦傷，具有比較高的濕度變化.在真空中大約N=1.32，堆積密度82%，使用300(℃)蒸鍍，其堆積密度將達到98%,N=1.39它的膜層能通過消除裝置的擦傷測試并且溫度變化低，在室溫與300(℃)之間，折射率與密度的變化幾乎成正比例的. 在玻璃上冷鍍MGF2加以IAD助鍍可以得到300(℃)同等的薄膜，但是125-150EV能方鋁管量蒸鍍可是最適合的.在塑料上使用IAD蒸鍍幾乎強制獲得合理的附著力與硬度.經驗是MGF2不能與離子碰撞過于劇烈.氣和氬氣混合充氣，但是這是熱鍍的情況，冷鍍時這種性況不存在. 氧離子助鍍包裝產品使用的絕緣膜方鋁管
SiO2用于防反膜，冷光膜，濾光片，絕緣膜，眼鏡膜，紫外膜. 方鋁管
透光范圍(nm) 折射率(N) 550nm 蒸發溫度(℃) 蒸發源 應用 雜氣排放量
200--2000 1.46 1800-2200 電子槍，防反膜，增氧離子助鍍包裝產品使用的絕緣膜方鋁管透 少，升華
